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2010年4月30日 (金)

LEC「全国短答公開模試第1回」の結果

昨日からゴールデンウイークが始まり、いよいよ試験本番に向け、ラストスパートです。楽しく気合を入れて勉強しています。

4/24(土)に受けたLEC「全国短答公開模試第1回」の結果(採点結果,偏差値など)が発表になりました。

他の受験生の中での自分の位置付けが確認できておもしろいです。昨年はまったくそんな余裕もありませんでしたが、今年は自分をメタ認知できるくらいの余裕があります。

≪「全国短答公開模試第1回」科目別得点(採点結果)≫

  1. 特実 11点/20点満点 ⇒ 偏差値 49.9 C
  2. 意匠  6点/10点満点 ⇒ 偏差値 47.9 C
  3. 商標  4点/10点満点 ⇒ 偏差値 45.5 C
  4. 条約  5点/10点満点 ⇒ 偏差値 52.3 C
  5. 著作  5点/ 5点満点 ⇒ 偏差値 60.4 A
  6. 不競 4点/ 5点満点 ⇒ 偏差値 59.9 A
  7. 合計 35点/60点満点 ⇒ 偏差値 51.5 C

(A 十分合格圏です。B 合格圏です。C 合格圏までもう少しです。)

得点は自己採点の結果と同じでした。
順位は、665位/受験者数1432人 でした。

≪考察≫

自己採点の時点では、いい成績が取れたと喜んでいましたが、平均点が高く(33.6点)、思ったほどのいい成績ではありませんでした。
でも、平均点よりも高い点が取れたので、まずまずです。

先日の自己採点の結果からの「勉強戦略」では、

  1. 勉強を注力する科目 : 特実,商標
  2. そこそこでいい科目 : 著作

としていましたが、偏差値を見ると

  1. 勉強を注力する科目 : 意匠,商標(,特実)
  2. そこそこでいい科目 : 著作,不競

ということがわかりました。

≪今後≫

明日(5/1)、全国短答公開模試第2回を受けますが、今回は特実の勉強を集中してやってきたので、そこでの得点が伸びることを期待しています。

その結果を見て再度今後の対策を練り直しますが、おそらく、意匠,商標に注力することになると思います。

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